Fecha de publicación: 01/01/2016
Ensayo de materiales cerámicos y básicos. Determinación directa de las fracciones másicas de impurezas en los polvos y granos de carburo de silicio mediante espectroscopia de emisión óptica mediante plasma de acoplamiento inductivo (ICP OES) con vaporización electrotérmica (ETV) (Ratificada por AENOR en enero de 2016.)
La norma UNE-EN 15991:2015 establece un método para determinar directamente las fracciones másicas de impurezas en polvos y granos de carburo de silicio mediante espectroscopia de emisión óptica mediante plasma de acoplamiento inductivo (ICP OES) con vaporización electrotérmica (ETV). Esta norma se refiere a la determinación de las impurezas en materiales cerámicos y básicos, específicamente en polvos y granos de carburo de silicio.
El método consiste en la preparación de una muestra homogénea del material cerámico o básico, seguida de la vaporización electrotérmica (ETV) para convertir el material en un plasma. Luego, se utiliza espectroscopia de emisión óptica mediante plasma de acoplamiento inductivo (ICP OES) para medir las intensidades de los rayos emitidos por las impurezas presentes en la muestra.
La norma establece los requisitos para la preparación y análisis de las muestras, incluyendo la selección del equipo de ICP OES, el ajuste de los parámetros de operación y la calibración del instrumento. También se definen los límites de precisión y exactitud para la determinación de las fracciones másicas de impurezas.
La norma UNE-EN 15991:2015 es una guía práctica para los laboratorios que necesitan determinar las impurezas en materiales cerámicos y básicos, especialmente en polvos y granos de carburo de silicio. Los resultados obtenidos con este método pueden ser utilizados para evaluar la calidad y pureza de estos materiales.
gracias, por fin encontre la normativa entera, lo unico que hay que hacerlo con el navegador opera gx como indica pero bueno...
gracias, es dificil de encontrar sin pagar