Fecha de publicación: 01/11/2013
Dispositivos semiconductores. Dispositivos micro-electromecánicos. Parte 18: Métodos de ensayo de doblado para materiales de película fina. (Ratificada por AENOR en noviembre de 2013.)
La norma UNE-EN 62047-18:2013 establece los métodos de ensayo para evaluar la resistencia al doblado de materiales de película fina utilizados en la fabricación de dispositivos micro-electromecánicos (MEMS). Esta norma es aplicable a cualquier material que se utilice como base o capa en la construcción de MEMS, incluyendo películas delgadas de metal, semiconductor y polímero.
La resistencia al doblado se mide mediante una serie de pruebas estándar que evalúan la capacidad del material para soportar deformaciones sin sufrir daños estructurales. Estas pruebas incluyen el ensayo de doblado simple, doblado en espiral y doblado en zigzag, cada uno diseñado para simular diferentes condiciones de servicio.
La norma especifica los requisitos para la preparación de las muestras, la instalación del equipo de ensayo y la ejecución de las pruebas. También establece los parámetros para la medición de la resistencia al doblado, incluyendo la tensión, el desplazamiento y la deformación.
Además, la norma proporciona recomendaciones para la interpretación de los resultados y la evaluación de la resistencia al doblado en función del tipo de material y su aplicación específica. La ratificación de esta norma por AENOR garantiza que los dispositivos MEMS fabricados con materiales que cumplen con sus requisitos sean seguros y confiables.
gracias, por fin encontre la normativa entera, lo unico que hay que hacerlo con el navegador opera gx como indica pero bueno...
gracias, es dificil de encontrar sin pagar