Fecha de publicación: 01/06/2012
Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de los materiales de película metálica. (Ratificada por AENOR en junio de 2012.)
La norma UNE-EN 62047-14:2012 establece un método para medir el límite de formación de los materiales de película metálica en dispositivos microelectromecánicos. Esta norma es aplicable a cualquier dispositivo que contenga una capa metálica y se utilice para la fabricación de componentes electrónicos.
El objetivo del método es determinar el punto de inicio de la formación de la película metálica, también conocido como «punto de forma», que es crítico en la fabricación de dispositivos microelectromecánicos. El límite de formación se define como el punto en el que la resistencia eléctrica entre dos electrodos aumenta significativamente debido a la formación de una película metálica.
El método de medición implica la aplicación de una tensión constante entre dos electrodos y la medida de la resistencia eléctrica entre ellos. La curva de resistencia contra la tensión se analiza para determinar el punto de forma, que se define como el valor de tensión en el que la resistencia aumenta un 10% con respecto al valor inicial.
La norma establece los requisitos para la preparación del dispositivo y los electrodos, así como las condiciones de medición y análisis de datos. También se definen los criterios de aceptación para la medición del límite de formación.
En resumen, la norma UNE-EN 62047-14:2012 proporciona un método estándar para medir el límite de formación de los materiales de película metálica en dispositivos microelectromecánicos, lo que es fundamental para garantizar la calidad y rendimiento de estos componentes electrónicos.
gracias, por fin encontre la normativa entera, lo unico que hay que hacerlo con el navegador opera gx como indica pero bueno...
gracias, es dificil de encontrar sin pagar